P纯离子镀膜机系列

P纯离子镀膜机系列

离子刻蚀机RIE


RIE(Reactive Ion Etching)离子刻蚀机:系列设备为真空等离子刻蚀机属于电子工业的干法清洗,工艺气体在电子区域形成等离子体,并产生电离气体和释放高能电子组成的气体,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面,等离子体在工件表面发生反应,从而实现清洁、改性、刻蚀的目的,最后将污染物转换为气相,并通过真空泵用连续气体流将其排出。


主要特点

1、超低清洗温度,满足不同场合温度要求,不对清洗产品造成温度影响;

2、旋转装置为行星旋转机构、具镀膜工艺不同,设计为:变频调速,公转式、公自转结合式。采用气动门铰,自动锁门,减少操作程序,增强真空门整体的密闭性及减少对橡胶密封圈的破坏性;

3、高真空度真空腔体设计及制造工艺,配置进口真空泵(分子泵),用户可据自己的需求,随时升级为多功能镀膜设备;

4、设备采用原装进口高压激励电路技术,产生高密度等离子体,确保出众的清洗效果;

5、放电技术:特殊处理及特殊结构的放电装置,确保形成稳定均匀的等离子体;

6、智能控制:PLC智能控制+HMI全彩人机触控界面,实现逻辑全自动控制;

7、报警及保护:全面安全防护包括:温度安全防护功能、过载防护功能、短路断路报警防护功能,各种误操作保护功能。异常情况进行报警,并执行相应保护措施。



技术优势

1、物质的微结构表面会粘附各种各样的气体分子、微小颗粒、氧化物杂质等,统称为粘附物,这些粘附物属于微观粒子,宏观的清洗方式不能清除它们;

2、这些微观粘附物会对纳米级膜层产生诸多不利影响,影响膜层的结合力、清洁度、光泽、致密度等;

3、离子束刻蚀清洗源可以在真空条件下产生高能氩等离子体,轰击被镀工件表面;它不仅可以消除表面粘附物,还能“刻蚀”物质表面氧化物,从而得到“新鲜”物质表面,可以极大地提高薄膜的结合力,并提高膜层纯度;

4、离子束清洗工艺通常运行在膜层沉积之前。 清洗各种形状复杂的产品,包括内孔内壁、均匀清洗;

5、设计更紧凑合理、美观;离子束更稳定;工作功率范围更宽;清洗刻蚀效率更高;刻蚀均匀性更好;性能可靠,操作维修简单方便;产品系列更完整;

6、应用领域,可以为如下行业的镀膜提供表面清洗预处理:3C消费电子、半导体、光学、 交通工具、刀具模具、家电、新能源、医疗、军工航天、科研等行业。


设备参数

流量统计代码